對光催化氧化廢氣處理設(shè)備潤滑裝置的基本要求
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2020-12-12 16:07
對光催化氧化廢氣處理設(shè)備潤滑裝置的基本要求
光催化氧化廢氣處理設(shè)備是一種新型的環(huán)保的廢氣處理設(shè)備，它能夠通過光能來進行處理，接下來為***家介紹的是對它潤滑裝置的基本要求。
1.盡可能實現(xiàn)潤滑系統(tǒng)機械化、自動化，且性能******、工作可靠，保證各個潤滑點獲得******的潤滑。
2.光催化氧化廢氣處理設(shè)備潤滑裝置應具有質(zhì)量高的過濾裝置和吸塵效能，確保潤滑材料的清潔。
3.裝置的結(jié)構(gòu)盡可能簡單，便于維護與檢修。
4.能確保均勻、連續(xù)地供應潤滑材料，并便于對潤滑劑的供給量進行調(diào)節(jié)。要考慮潤滑劑的循環(huán)使用。
5.裝置的密封性能******，不泄漏，不污染環(huán)境，安全可靠。
以上是對光催化氧化廢氣處理設(shè)備潤滑裝置的基本要求，了解之后能夠?qū)ψ约业脑O(shè)備進行調(diào)節(jié)，這樣能提高它的工作效率。
